市科委2010年度科技创新行动计划先进制造先进材料领域重大科技攻关项目指南
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于2019年06月27日发表
为贯彻落实国家和上海市中长期科技发展规划纲要，以及我市《关于进一步推进科技创新，加快高新技术产业化的若干意见》，推动上海新型显示领域形成持续创新能力，加快经济增长方式的转变，上海市科学技术委员会特发布本指南。
一、研究目标、内容及期限
专题一、激光显示产业化关键技术研究
研究目标：针对激光显示产业发展需求,开发功率在50MW以上，波长为440～450nm的蓝光半导体激光器件，并实现产业化；完成尺寸在0.2英寸以下，解析度为800×600和1080×720的单片式LCOS微型显示芯片的设计与封装，为微型投影机产业化提供配套支持；开发解析度为1920×1280以上的高清晰度LCOS微型显示芯片，形成为高清晰度激光电视产业化和特殊显示提供关键部件的能力；建立微型激光投影模块及其应用产品生产线；制定相关技术和产品标准。
研究内容：
一、蓝光激光器关键技术：蓝光半导体激光光源外延生长工艺，蓝激光器件封装技术；
二、微型激光投影模块及应用产品关键技术：微型激光光学引擎设计制造技术，提高激光光源利用效率和消除散斑的技术，微型激光投影模块及其应用产品的批量生产技术；
三、LCOS芯片关键技术：LCOS芯片集成电路设计技术、液晶设计与封装技术，包括为单片式微型显示器配套的小尺寸LCOS微型显示芯片，单片式和三片式背投显示高清显示LCOS显示芯片，医学影像等超高清特殊LCOS显示芯片。
研究期限：2012年12月31日前完成。
专题二、光电子核心装备－AMOLED投影光刻机研制
研究目标：研制2.5代AMOLED投影光刻机，通过光刻工艺验证，并正式交付用户使用，为国内OLED生产线建设提供核心装备和配套技术服务；完成4.5代光刻机详细设计方案，试制配套的大行程高精度扫描工件台，编制光刻工艺技术文件。
研究内容：
一、基板尺寸为370mm*470mm的全自动扫描光刻机设计、制造和光刻工艺：超大视场、高分辨率投影物镜的设计、加工技术与装校工艺；大行程高精度扫描工件台研制；全自动扫描光刻机系统软件开发及其验证平台开发；光刻机对位精度、套刻精度、分辨率、曝光均匀性、再现性、稳定性研究；基于机器视觉的离轴对准系统和空间像传感器设计；全自动大尺寸掩模版传输及存储单元设计；高精度大腔体温度控制单元研制等内容。
二、基板尺寸为730mm*920mm的光刻机方案设计研究及配套工件台设计与制造。
研究期限：2012年6月30日前完成。
二、申请条件
1、项目申报需以企业为主体，鼓励产学研合作承担研究开发任务，牵头单位应具备较强的技术实力和较好的前期研究基础，合作开发需附上合作协议。
２、申请专题一申报单位自筹资金不得低于70％，申请专题二申报单位自筹资金不得低于50％。
三、申请方式
1、本指南公开发布。凡符合课题制要求、有意承担研究任务、并在上海注册的法人可从“上海科技”网站（http://www.stcsm.gov.cn）上进入“在线受理科研计划项目可行性方案”，并相关表格《上海市科学技术委员会科研计划项目课题可行性方案（2010版）》，按照要求认真填写。
网上填报备注：
（1）登陆“上海科技”网（http://www.stcsm.gov.cn）,进入网上办事专栏；
（2）点击《科研计划项目课题可行性方案》受理并进入申报页面；
【初次填写】转入申报指南页面，点击“专题名称”中相应的指南专题后开始申报项目（需要设置“项目名称”、“依托单位”、“负责人”、“登陆密码”）；
【继续填写】输入已申报的项目名称、依托单位、负责人、密码后继续该项目的填报。
（3）有关操作可参阅在线帮助。
2、课题责任人和主要科研人员，同期参与承担国家和地方科研项目数不得超过三项，已申报今年市科委其它类别项目者应主动予以申明。
3、本课题申请起始日期为3月25日，截止日期为4月12日。课题申报时需提交书面可行性方案一式4份，并通过“上海科技”网站在线递交电子文本1份。书面可行性方案集中受理时间为4月1日至4月12日，每个工作日上午9：00―下午4：30。
四、联系方式
课题资料送达地址：钦州路100号2号楼319，320室（邮编：200235），上海市火炬高技术产业开发中心高新技术领域项目管理部。
联系人：刘华珍、谢静娴
联系电话：54065169、54065173
上海市科学技术委员会
二一年三月二十五日
